更新時(shí)間:2024-06-04
引線(xiàn)框架、IC基板、芯片鍍層測厚儀,作為芯片封裝的載體和基板,為了保證芯片和引線(xiàn)框架和基板的良好連接,會(huì )在引線(xiàn)框架以及基板上進(jìn)行鍍銀或者化學(xué)鎳鈀金(ENEPIG)的電鍍處理。
作為集成電路的芯片載體的引線(xiàn)框架,它起到了和外部導線(xiàn)連接的橋梁作用,絕大部分的半導體集成塊中都需要使用引線(xiàn)框架,是電子信息產(chǎn)業(yè)中重要的基礎材料。封裝基板是Substrate(簡(jiǎn)稱(chēng)SUB)?;蹇蔀樾酒峁╇娺B接、保護、支撐、散熱、組裝等功效,以實(shí)現多引腳化,縮小封裝產(chǎn)品體積、改善電性能及散熱性、超高密度或多芯片模塊化的目的。
引線(xiàn)框架、IC基板、芯片鍍層測厚儀,作為芯片封裝的載體和基板,為了保證芯片和引線(xiàn)框架和基板的良好連接,會(huì )在引線(xiàn)框架以及基板上進(jìn)行鍍銀或者化學(xué)鎳鈀金(ENEPIG)的電鍍處理。
ENEPIG工藝,是指在基材表面先鍍化學(xué)鎳然后在鍍鈀和金,Au 和 Pd 的涂層厚度僅為幾納米。為了確保產(chǎn)品品質(zhì),必須要對低至納米的鍍層厚度進(jìn)行測量。
引線(xiàn)框架、IC基板、芯片鍍層測厚儀應用領(lǐng)域
電鍍行業(yè)、電子通訊、航天新能源、五金衛浴、電器設備
汽車(chē)制造、磁性材料、貴金屬電鍍、高校及科研院所等
超高硬件配置
采用Fast-SDD探測器,高達129eV分辨率,能精準地解析每個(gè)元素的特征信號,針對復雜底材以及多層復雜鍍層,同樣可以輕松測試。
搭配大功率X光管,能很好的保障信號輸出和激發(fā)的穩定性,減少儀器故障率。
高精度自動(dòng)化的X、Y、Z軸的三維聯(lián)動(dòng),更精準快速地完成對微小異型(如弧形、拱形、螺紋、球面等)測試點(diǎn)的定位。
設計亮點(diǎn)
上照式設計,可適應更多異型微小樣品的測試。相較傳統光路,信號采集效率提升2倍以上??勺兘垢呔珨z像頭,搭配距離補正系統,滿(mǎn)足微小產(chǎn)品,臺階,深槽,沉孔樣品的測試需求??删幊套詣?dòng)位移平臺,微小密集型可多點(diǎn)測試,大大提高測樣效率。自帶數據校對系統。
軟件界面
人性化的軟件界面,讓操作變得更加便捷。
曲線(xiàn)的中文備注,讓您的操作更易上手。
儀器硬件功能的實(shí)時(shí)監控,讓您的使用更加放心。
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